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電壓擊穿試驗儀,電阻率測試儀,介電常數測試儀,漏電起痕試驗儀,耐電弧試驗儀、介電溫譜測量系統、熱刺激電流測量系統
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產品詳細頁
新款絕緣子漏起痕試驗儀

新款絕緣子漏起痕試驗儀

  • 產品型號:NLD-AII
  • 更新時間:2024-07-16
  • 產品介紹(shao):新款絕緣子漏起痕試驗儀設備組成:高壓發生器:主要由調壓器和變壓器組成,主要作用是升壓和降壓霧化試驗箱:主要由霧化室和超聲波霧化器組成,在霧化室內,由超聲波霧化器產生規定流量的霧化顆粒后,附著在絕緣子表面,形成露珠后,對絕緣子進行腐蝕。控制系統:控制整個試驗系統的開始、暫停和結束。
  • 在線留言 010-57223836/57223838

產品介紹

新款絕緣子漏起痕試驗儀

設備型(xing)號:NLD-AII

滿足(zu)標準:

    GB/T  20142-2006 標稱(cheng)電壓(ya)高于1000V的交流架空線(xian)路用(yong)線(xian)路柱(zhu)式復合絕緣子---定義 、試驗(yan)方法(fa)及(ji)接受準則

    GBT 22079-2008 標(biao)稱電壓(ya)高(gao)于1000V使用的戶內(nei)和戶外聚(ju)合物(wu)絕緣子 一(yi)般定義、試驗方法和接受準則

試驗(yan)原理:

    在一(yi)個(ge)封(feng)閉的(de)鹽霧(wu)室內,水平和垂直各放置一(yi)個(ge)絕(jue)(jue)(jue)緣(yuan)子,對絕(jue)(jue)(jue)緣(yuan)子施加(jia)工頻(pin)高壓,長期運行1000小時(shi),判(pan)斷工頻(pin)高壓及鹽霧(wu)室對絕(jue)(jue)(jue)緣(yuan)子的(de)蝕損程度(du),及絕(jue)(jue)(jue)緣(yuan)子的(de)耐漏(lou)電概況,從而判(pan)斷絕(jue)(jue)(jue)緣(yuan)子是否合格。

新款絕緣子漏起痕試驗儀設備組成:

高壓(ya)(ya)發生器(qi)(qi):主(zhu)(zhu)要(yao)由調壓(ya)(ya)器(qi)(qi)和變壓(ya)(ya)器(qi)(qi)組成,主(zhu)(zhu)要(yao)作用是升壓(ya)(ya)和降壓(ya)(ya)

霧化(hua)試驗箱:主(zhu)要由(you)霧化(hua)室和(he)超聲波霧化(hua)器組成,在霧化(hua)室內(nei),由(you)超聲波霧化(hua)器產生規定流(liu)量的霧化(hua)顆粒后(hou),附著在絕(jue)緣子(zi)表(biao)面,形成露(lu)珠(zhu)后(hou),對(dui)絕(jue)緣子(zi)進行(xing)腐蝕。

控制系統:控制整個試驗系統的開始、暫停和結束。

軟(ruan)件功能:

1、★曲(qu)(qu)線顯(xian)示:實時顯(xian)示試(shi)驗電(dian)壓(ya)和電(dian)流曲(qu)(qu)線

2、★負載電流:實時顯示負載電流,過載保護

3、上下限(xian)位:上下限(xian)位狀態指示燈

4、★試(shi)(shi)驗(yan)暫停:時間期(qi)間可以中斷試(shi)(shi)驗(yan)過程后,繼續開始試(shi)(shi)驗(yan),累積記錄(lu)試(shi)(shi)驗(yan)總時長

5、參(can)數校準(zhun):可(ke)以對電壓和電流參(can)數進行(xing)校準(zhun)

6、歷史(shi)(shi)數據(ju):可(ke)以查詢(xun)歷史(shi)(shi)數據(ju)

7、電子報告:可以保存電子報告

8、數(shu)據導(dao)出:可以(yi)通(tong)過(guo)U盤接口導(dao)出數(shu)據


技術參(can)數:

1、輸入電壓:AC-220V

★2、輸出電壓:AC0~50KV,DC -50~0 KV可以調

3、電器容量:50KVA

4、電(dian)壓試驗精(jing)度(du):<2%

5、高壓側輸出電流: ≥1A

6、高(gao)壓(ya)側輸出電(dian)流:>250MA時,最大電(dian)壓(ya)降<5%

7、電流測量精度:<1%

★8、門限(xian)位(wei)開關:打開門后,電壓斷電并自動(dong)歸零

9、過(guo)流保護(hu):可設定(ding)

10、試(shi)品離霧室(shi)頂(ding)的間(jian)距:>400mm,

11、試品離墻的間距:>400mm

14、試品數量:水平1只(zhi),垂(chui)直1只(zhi)

15、試驗時間:1000小(xiao)時

★16、噴霧方式:超聲波霧化器

17、試樣處的噴(pen)霧速度:3M/S

18、噴霧量為:(0.4±0.1)L/m3.H

★19、霧室容積:4m3(長寬(kuan)高(gao)=2000mm*1200mm*1700mm)

20、噴(pen)霧液體: NaC1和(he)去離子水配制好的鹽水

★23、霧化顆(ke)粒:5μm-10μm

24、控制系統:嵌入(ru)式工(gong)業計算機(ji)

★25、主機尺寸:長寬高(gao)=3400*1300*1800(MM)

26、設備重量:300kG

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