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產品(pin)詳(xiang)細頁NLD新款絕緣子漏電蝕損測定儀
- 產品型號:NLD-AII
- 更新時間:2024-07-16
- 產品介紹:NLD新款絕緣子漏電蝕損測定儀設備組成:高壓發生器:主要由調壓器和變壓器組成,主要作用是升壓和降壓霧化試驗箱:主要由霧化室和超聲波霧化器組成,在霧化室內,由超聲波霧化器產生規定流量的霧化顆粒后,附著在絕緣子表面,形成露珠后,對絕緣子進行腐蝕。控制系統:控制整個試驗系統的開始、暫停和結束。
- 在線留言 010-57223836/57223838
產品介紹
NLD新款絕緣子漏電蝕損測定儀
設備型號(hao):NLD-AII
滿足標準:
GB/T 20142-2006 標稱電壓高于1000V的交流架空線路用線路柱式復(fu)合(he)絕緣子---定義 、試驗方法及接(jie)受(shou)準則
GBT 22079-2008 標(biao)稱電壓高于1000V使用的戶(hu)內和戶(hu)外聚合物(wu)絕(jue)緣子 一般(ban)定(ding)義(yi)、試(shi)驗(yan)方法和接受準(zhun)則
試驗原理:
在一個(ge)封閉的(de)鹽霧室(shi)內,水平和垂(chui)直各放置一個(ge)絕(jue)緣(yuan)子(zi)(zi),對(dui)絕(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)施加工頻(pin)高(gao)壓,長期(qi)運(yun)行(xing)1000小時,判(pan)斷工頻(pin)高(gao)壓及鹽霧室(shi)對(dui)絕(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)的(de)蝕損程(cheng)度,及絕(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)的(de)耐漏電(dian)概況,從而判(pan)斷絕(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)是否(fou)合(he)格(ge)。
NLD新款絕緣子漏電蝕損測定儀設備組成:
高壓(ya)(ya)發生器(qi):主要由調壓(ya)(ya)器(qi)和(he)變(bian)壓(ya)(ya)器(qi)組(zu)成,主要作用是(shi)升壓(ya)(ya)和(he)降壓(ya)(ya)
霧(wu)(wu)化(hua)試驗箱:主要由(you)霧(wu)(wu)化(hua)室和超聲(sheng)波霧(wu)(wu)化(hua)器組成,在(zai)霧(wu)(wu)化(hua)室內,由(you)超聲(sheng)波霧(wu)(wu)化(hua)器產生規定(ding)流(liu)量的(de)霧(wu)(wu)化(hua)顆(ke)粒后,附著在(zai)絕(jue)(jue)緣(yuan)子表(biao)面,形(xing)成露珠(zhu)后,對(dui)絕(jue)(jue)緣(yuan)子進(jin)行腐蝕。
控(kong)制系(xi)統:控(kong)制整個試驗系(xi)統的開始、暫(zan)停(ting)和結束。
軟件功能:
1、★曲線(xian)顯(xian)(xian)示:實時顯(xian)(xian)示試(shi)驗電壓和電流曲線(xian)
2、★負載電流:實(shi)時顯示負載電流,過(guo)載保護
3、上(shang)下(xia)限(xian)位(wei)(wei):上(shang)下(xia)限(xian)位(wei)(wei)狀(zhuang)態(tai)指示燈
4、★試驗暫停(ting):時間(jian)期間(jian)可(ke)以(yi)中斷試驗過程(cheng)后,繼續(xu)開始試驗,累積記錄(lu)試驗總時長(chang)
5、參數(shu)校準:可(ke)以對電(dian)壓和電(dian)流參數(shu)進(jin)行校準
6、歷史(shi)數(shu)據:可以查詢歷史(shi)數(shu)據
7、電子報(bao)告:可以保存電子報(bao)告
8、數據導出:可(ke)以通過U盤接口(kou)導出數據
技術參數:
1、輸入電壓:AC-220V
★2、輸出電(dian)壓:AC0~50KV,DC -50~0 KV可(ke)以調
3、電器容量:50KVA
4、電壓試驗精度:<2%
5、高壓側(ce)輸(shu)出電流(liu): ≥1A
6、高壓側輸(shu)出電(dian)流:>250MA時,最大電(dian)壓降<5%
7、電流測(ce)量精度:<1%
★8、門(men)限位開關:打開門(men)后,電(dian)壓斷(duan)電(dian)并自動歸零
9、過流保護(hu):可設定
10、試品(pin)離(li)霧室頂(ding)的間距:>400mm,
11、試品(pin)離墻的間距:>400mm
14、試品數(shu)量:水平1只,垂直(zhi)1只
15、試驗(yan)時間:1000小時
★16、噴(pen)霧方式:超聲波霧化(hua)器
17、試樣處(chu)的噴霧速度:3M/S
18、噴霧量為:(0.4±0.1)L/m3.H
★19、霧室容積:4m3(長寬(kuan)高(gao)=2000mm*1200mm*1700mm)
20、噴(pen)霧液體: NaC1和(he)去離子水配制好的(de)鹽水
★23、霧(wu)化顆粒:5μm-10μm
24、控(kong)制系統:嵌入式工業計算(suan)機
★25、主機尺寸:長寬高=3400*1300*1800(MM)
26、設備重量:300kG
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