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電壓擊穿試驗儀,電阻率測試儀,介電常數測試儀,漏電起痕試驗儀,耐電弧試驗儀、介電溫譜測量系統、熱刺激電流測量系統
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產品詳細頁
新款絕緣子漏電蝕損測量儀NLD

新款絕緣子漏電蝕損測量儀NLD

  • 產品型號(hao):NLD-AII
  • 更新時間:2024-07-16
  • 產品介(jie)紹:新款絕緣子漏電蝕損測量儀NLD設備組成:高壓發生器:主要由調壓器和變壓器組成,主要作用是升壓和降壓霧化試驗箱:主要由霧化室和超聲波霧化器組成,在霧化室內,由超聲波霧化器產生規定流量的霧化顆粒后,附著在絕緣子表面,形成露珠后,對絕緣子進行腐蝕。控制系統:控制整個試驗系統的開始、暫停和結束。
  • 在線留言 010-57223836/57223838

產品介紹

新款絕緣子漏電蝕損測量儀NLD

設備型(xing)號:NLD-AII

滿足標準:

GB/T  20142-2006 標稱(cheng)電壓高于1000V的交(jiao)流架空(kong)線路(lu)用線路(lu)柱(zhu)式(shi)復(fu)合絕緣子---定義(yi) 、試驗方法及接受準則

GBT 22079-2008 標(biao)稱電(dian)壓高于1000V使(shi)用的戶內和(he)戶外聚合(he)物絕緣子(zi) 一般定義(yi)、試驗方(fang)法和(he)接受(shou)準則

試驗原理:

在一個封(feng)閉的鹽霧室內,水平(ping)和垂直(zhi)各放置一個絕(jue)(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)(zi),對(dui)(dui)絕(jue)(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)(zi)施加工(gong)頻高壓,長期(qi)運行1000小時(shi),判斷(duan)工(gong)頻高壓及(ji)鹽霧室對(dui)(dui)絕(jue)(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)(zi)的蝕損程(cheng)度,及(ji)絕(jue)(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)(zi)的耐漏電(dian)概(gai)況,從而判斷(duan)絕(jue)(jue)緣(yuan)子(zi)(zi)(zi)是否(fou)合格。

新款絕緣子漏電蝕損測量儀NLD設備組成:

高(gao)壓(ya)發(fa)生(sheng)器:主要由調壓(ya)器和(he)變壓(ya)器組成(cheng),主要作用是升壓(ya)和(he)降壓(ya)

霧(wu)(wu)化(hua)(hua)試驗箱:主要由霧(wu)(wu)化(hua)(hua)室(shi)和超聲(sheng)波(bo)霧(wu)(wu)化(hua)(hua)器組(zu)成(cheng),在(zai)霧(wu)(wu)化(hua)(hua)室(shi)內,由超聲(sheng)波(bo)霧(wu)(wu)化(hua)(hua)器產生規定(ding)流量的霧(wu)(wu)化(hua)(hua)顆(ke)粒(li)后(hou),附著在(zai)絕緣子(zi)表面,形成(cheng)露珠后(hou),對絕緣子(zi)進行腐(fu)蝕。

控制系統:控制整個試(shi)驗(yan)系統的(de)開始、暫停和結束。

軟件功能:

1、★曲線顯(xian)示:實時(shi)顯(xian)示試驗電壓和電流(liu)曲線

2、★負載(zai)電流(liu):實時(shi)顯示負載(zai)電流(liu),過載(zai)保護

3、上下(xia)限(xian)位:上下(xia)限(xian)位狀態指示燈

4、★試(shi)驗(yan)(yan)暫(zan)停:時間期(qi)間可以中斷試(shi)驗(yan)(yan)過程后,繼續(xu)開(kai)始試(shi)驗(yan)(yan),累積(ji)記錄試(shi)驗(yan)(yan)總時長

5、參(can)數校準(zhun):可以對電壓和電流(liu)參(can)數進行校準(zhun)

6、歷史數(shu)據:可以查詢歷史數(shu)據

7、電(dian)子(zi)報告:可以(yi)保存(cun)電(dian)子(zi)報告

8、數(shu)據(ju)導出:可以通(tong)過U盤接口導出數(shu)據(ju)


技術參數:

1、輸入電壓:AC-220V

★2、輸出(chu)電壓(ya):AC0~50KV,DC -50~0 KV可以調

3、電器(qi)容量:50KVA

4、電壓試驗(yan)精度:<2%

5、高壓側輸(shu)出電流: ≥1A

6、高壓側(ce)輸(shu)出電(dian)流:>250MA時,最大電(dian)壓降<5%

7、電流測量精度:<1%

★8、門限(xian)位開(kai)關:打開(kai)門后,電壓斷電并自(zi)動(dong)歸零

9、過流保護:可設定

10、試品(pin)離霧(wu)室(shi)頂(ding)的間距:>400mm,

11、試品離墻(qiang)的間距:>400mm

14、試品數量:水平1只(zhi),垂直1只(zhi)

15、試驗(yan)時(shi)間(jian):1000小時(shi)

★16、噴(pen)霧(wu)方(fang)式:超(chao)聲(sheng)波霧(wu)化器

17、試樣處的(de)噴霧速度:3M/S

18、噴霧量為:(0.4±0.1)L/m3.H

★19、霧(wu)室容積:4m3(長(chang)寬高(gao)=2000mm*1200mm*1700mm)

20、噴霧(wu)液體: NaC1和(he)去離子水配(pei)制(zhi)好的鹽水

★23、霧化(hua)顆粒:5μm-10μm

24、控制系統(tong):嵌入式工業計算機(ji)

★25、主(zhu)機尺(chi)寸:長(chang)寬高=3400*1300*1800(MM)

26、設備(bei)重量:300kG





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